Objetivo de pulverización catódica de titanio de alta pureza
Artículo: Objetivo de pulverización catódica de titanio de alta pureza
Material: Titanio de alta pureza.
Dimensiones: diámetro 63 x 37 mm, diámetro 100 x 40 mm.
Aplicaciones: PVD, Recubrimiento, Semiconductores.
Palabra clave: objetivo de pulverización catódica para PVD
Técnica: Forja, Esmerilado.
Pureza: superior al 99,95%
Condiciones de pago: T/T a la vista, L/C.
Estándares: ISO 9001:2015, EN10204 3.1, MTC/EN10204 3.2
Introducción del producto
Descripción
Los objetivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza se utilizan principalmente en las industrias de la electrónica y la información, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantallas de cristal líquido, memorias láser, dispositivos de control electrónico, etc., también se pueden utilizar en materiales resistentes al desgaste, altas temperaturas y resistencia a la corrosión, suministros decorativos de alta gama y otras industrias.
Características
Equipado con un avanzado revestimiento de pulverización catódica con magnetrón, que utiliza un sistema de cañón de electrones para emitir y enfocar electrones en el material que se está recubriendo de modo que los átomos pulverizados sigan el principio de conversión de momento y se desprendan del material con mayor energía cinética. En comparación con los productos del mercado, nuestro objetivo de pulverización catódica de alta pureza adopta tecnologías de pulverización catódica para materiales de película delgada. Utiliza los iones generados por la fuente para acelerar la concentración en el vacío para formar un haz de iones de energía de alta velocidad, que bombardea la superficie sólida, y los iones intercambian energía cinética con los átomos de la superficie sólida.
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Nombre del árticulo |
Pureza del titanio: 99,999 % |
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Pureza |
99.99%~99.995% |
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Forma |
Redonda o personalizada según su solicitud. |
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Talla disponible |
1. Diámetro redondo: 30-2000 mm, espesor: 3.0 mm-300 mm 2. Placa: Longitud: 200-500mm Ancho:100-230mm Espesor: 3-40mm 3. Disponible personalizado |
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Normas de control de calidad total |
ISO9001:2008, SGS, Informe de terceros |
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Procesador |
Forjado y mecanizado por CNC |
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Superficie |
Superficie giratoria. |
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Aplicaciones |
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Solicitud |
Galvanoplastia, ingeniería química y tecnología petroquímica, industria médica, separación de semiconductores, materiales de recubrimiento de películas, recubrimiento de electrodos de almacenamiento, recubrimiento por pulverización catódica, recubrimiento de superficies y recubrimiento de gafas. Industria aeroespacial (motores a reacción, misiles y naves espaciales), militar, productos químicos y petrolíferos, desalinización y papel, automotriz, agroalimentaria, médica (miembros protésicos, implantes ortopédicos e instrumentos y rellenos dentales), utensilios deportivos, joyería y teléfonos celulares, etc.
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Componente químico
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Artículo |
N |
C |
H |
Fé |
O |
Mes |
Ni |
Derechos residuales de autor Elemento |
Máximo Total |
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Grado 1 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.2 |
0.18 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
|
Gr2 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
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Gr7 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
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Grado 12 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
0.2-0.4 |
0.6-0.9 |
0.1 |
0.4 |
Características
Pureza: la pureza es uno de los principales índices de rendimiento del material objetivo porque la pureza del material objetivo tiene una gran influencia en el rendimiento de la película.
En la práctica, sin embargo, también existen diferentes requisitos en cuanto a la pureza del material objetivo.
Contenido de impurezas: las impurezas sólidas en el material objetivo y la porosidad del oxígeno y la humedad son las principales fuentes de deposición de la película. Los diferentes usos del objetivo tienen diferentes requisitos en cuanto al contenido de impurezas; por ejemplo, en el aluminio puro y el material de aleación de aluminio para semiconductores industriales, el contenido de metales alcalinos y el contenido de elementos radiactivos tienen requisitos especiales.
Cuanto mayor sea la pureza del objetivo, mejor será el rendimiento de la película. Nuestro objetivo de pulverización catódica de titanio de alta pureza puede alcanzar una pureza del 99,995 %.
Pruebas
DT: Pruebas destructivas, pruebas de propiedades físicas, pruebas de dureza, pruebas de composición química.
NDT: Ensayos no destructivos, ensayos ultrasónicos, ensayos de penetración, ensayos de apariencia.
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