
Tira de lámina de tántalo
Artículo: Tantalum Foil Strip
Grado: UNS R05200, UNS R05400
Normas: ASTM B708, ASTM B 708-98, ASTM F 560
Grosor: 0. 01 mm - 0. 5 mm
Ancho: 20-600 mm
Longitud: en bobina, o como solicita el cliente
Superficie: sin rebabas, sin manchas de aceite
Pureza: 99.9% o 99.95%
Fabricación: Rolling en frío, recocido
Introducción del producto
Descripción
Las tiras de aluminio Tantalum exhiben propiedades excepcionales esenciales para diversas aplicaciones industriales. Reconocido por su alto punto de fusión, resistencia a la corrosión superior y una excelente conductividad, estos materiales son indispensables en la electrónica, el procesamiento aeroespacial y químico. Las láminas y las tiras, elaboradas con precisión, cuentan con altos niveles de pureza y ofrecen un rendimiento óptimo en condiciones desafiantes.
Suministramos tiras de lámina Tantalum y una amplia variedad de productos tantálios. Respaldados por una amplia experiencia, nuestros productos cumplen con estándares estrictos, asegurando una combinación de precisión y asequibilidad.
Procesos de fabricación
Tantalum lingote derretido mediante el uso de haz de electrones - descomposición de forjado (a la temperatura de 400 grados o menos) - Recocido - desbordamiento - Recocido - Rolling de tiras - Recocido - Rolling de aluminio - Tratamiento térmico.
Es mejor usar una prensa en frío para falsificar la descomposición, y la temperatura de forja no debe ser superior a 400 grados (la superficie de la falsificación gira azul a 400 grados). La falsificación en frío tiene una gran superficie de contacto y una buena uniformidad del material, lo que puede reducir la contaminación de las impurezas de gases.
Tantalum Foil y Tantalum Strip se procesan mediante rodamiento en frío. La tasa de mecanizado total es del 80% al 90% del grosor de la losa, y la tasa de procesamiento total es del 6% al 8% del espesor de la placa. Para garantizar la calidad de la superficie de la lámina enrollada, se requiere una superficie sin defecto, contaminación o rollo.
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Aleaciones regulares de tantalum y tantalio Foil & Strip Dimension |
||||
|
Productos |
Dimensión (mm) |
Forma |
||
|
Espesor |
Ancho |
Longitud |
||
|
TA Foil and Strip |
0.0254 - 0.15 |
5 - 300 |
100 - 6000 |
Frustrar, tira |
|
TA Foil and Strip |
0.15 - 0.5 |
50 - 1000 |
100 - 6000 |
Frustrar, tira |
|
Ta2.5W Foil and Strip |
0.02 - 0.09 |
< 152 |
Mayor o igual a 10000 |
Banda |
|
Requisitos químicos |
|||||
|
Contenido, máximo, peso% |
|||||
|
Elemento |
Cast de viga de electrones/arco de arco de vacío R05200 Tantalum sin alivio |
Sinterizado R05400 Tantalum sin aliento |
Cast/Vacuum-Arc Cast R 05255 90%Tantalum 10%Tungsten |
Cast/Vacuum-Arc Cast R 05252 97. 5%Tantalum 2.5%Tungsten |
Cast/Vacuum-Arc Cast R 05240 60%Tantalum 40%Niobium |
|
C |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
|
O |
0.015 |
0.03 |
0.015 |
0.015 |
0.020 |
|
N |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
|
H |
0.0015 |
0.0015 |
0.0015 |
0.0015 |
0.0015 |
|
Ceñudo |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
|
Mes |
0.020 |
0.020 |
0.020 |
0.020 |
0.020 |
|
Nótese bien |
0.100 |
0.100 |
0.100 |
0.50 |
35.0 - 42.0 |
|
NI |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
|
Si |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
0.005 |
|
Ti |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
0.010 |
|
W |
0.05 |
0.05 |
9.0 - 11.0 |
2.0 - 3.5 |
0.050 |
|
Ejército de reserva |
Resto |
Resto |
Resto |
Resto |
Resto |
|
Aleaciones de tantalio y tántalo Dimensión y tolerancia de la tira |
||||||
|
Espesor |
Tolerancia al grosor |
Ancho |
Tolerancia al ancho |
Longitud |
Tolerancia de longitud |
|
|
Grado 1 |
Grado 2 |
|||||
|
< 0.1 |
± 0.015 |
± 0.02 |
50 - 150 |
± 2.0 |
100 - 20000 |
± 2.0 |
|
0.1 - 0.2 |
± 0.015 |
± 0.02 |
50 - 240 |
± 2.0 |
100 - 20000 |
± 2.0 |
|
> 0.2 - 0.3 |
± 0.02 |
± 0.03 |
50 - 650 |
± 2.0 |
100 - 6000 |
± 2.0 |
|
> 0.3 - 0.5 |
± 0.03 |
± 0.04 |
50 - 650 |
± 2.0 |
100 - 6000 |
± 2.0 |
|
> 0.5 - 0.8 |
± 0.04 |
± 0.06 |
50 - 650 |
± 2.0 |
100 - 6000 |
± 2.0 |
|
> 0.8 - 1.0 |
± 0.06 |
± 0.08 |
50 - 650 |
± 2.0 |
100 - 6000 |
± 2.0 |
|
> 1.0 - 1.5 |
± 0.08 |
± 0.12 |
50 - 650 |
± 3.0 |
100 - 6000 |
± 4.0 |
|
> 1.5 - 2.0 |
± 0.12 |
± 0.16 |
50 - 650 |
± 3.0 |
100 - 4000 |
± 4.0 |
|
> 2.0 - 3.0 |
± 0.16 |
± 0.18 |
50 - 650 |
± 5.0 |
100 - 4000 |
± 5.0 |
|
> 3.0 - 4.0 |
± 0.18 |
± 0.20 |
50 - 650 |
± 5.0 |
100 - 3000 |
± 5.0 |
|
> 4.0 - 6.0 |
± 0.20 |
± 0.24 |
50 - 650 |
± 5.0 |
100 - 2000 |
± 5.0 |
|
Podemos seguir la tolerancia solicitada del cliente para producir productos. |
||||||
|
Grado y forma |
Condición recocida |
|||
|
|
La máxima resistencia a la tracción, Min, psi (MPA) |
PRODUCCIÓN DE SERVICIO, MIN, PSI (MPA) (2 % de compensación) |
Alargamiento, min, % (1- in. Longitud del calibre) |
|
|
Tantalio sin alear (R05200) (R05400) Plato, sábana y tira |
<0.060 in. thick Mayor o igual a 0. 060 in. |
30 000 (207) 25 000 (172) |
20 000 (138) 15 000 (103) |
20 30 |
|
60 % Tantalum - 40 % Niobio (R05240) |
<0.060 in. thick Mayor o igual a 0. 060 in. |
35 000 35 000 |
20 000 (138) 15 000 (103) |
25 25 |
Composición química
|
Elemento |
C |
O |
N |
H |
Ceñudo |
Mes |
Nótese bien |
NI |
Si |
Ti |
W |
|
R05200 (%, Max) |
0.01 |
0.015 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
0.02 |
0.1 |
0.01 |
0.005 |
0.01 |
0.05 |
|
R05400 (%, max) |
0.01 |
0.03 |
0.01 |
0.0015 |
0.01 |
0.02 |
0.1 |
0.01 |
0.005 |
0.01 |
0.05 |


Tantalum se puede usar como reemplazo para el platino para el aparato de laboratorio que debe tener una buena resistencia a la corrosión. Los fluidos en el cuerpo humano no reaccionan con el metal y se usa para implantes quirúrgicos sin rechazo. También se usa como un elemento de aleación con, por ejemplo, níquel y molibdeno, para producir aleaciones que tienen buena resistencia a la corrosión, resistencia y ductilidad.
Embalaje: estuche de madera, estuche de madera contrachapada o de acuerdo con la demanda del cliente.
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